Changfu Hóa chất Mercapto biến đổi polysiloxane: Giải pháp phủ bảo vệ hiệu quả cao cho các bảng mạch

Lớp phủ phù hợp là lớp phủ chuyên dụng được sử dụng để bảo vệ bảng mạch và thiết bị điện tử liên quan từ môi trường khắc nghiệt. Họ cung cấp khả năng chống ẩm, kháng nấm mốc, kháng bụi, kháng ăn mòn và kháng xịt muối. Lớp phủ phù hợp truyền thống bị ức chế oxy bề mặt trong quá trình bảo dưỡng UV, dẫn đến bảo dưỡng không hoàn toàn, hiệu quả thấp và chi phí tăng do nhu cầu về liều lượng quang hóa cao hơn hoặc các chất phụ gia như khí nitơ hoặc amin phản ứng. Bằng cách sử dụng polysiloxane và polysiloxane biến đổi hóa chất của Changfu Chemical để tạo ra lớp phủ ba khả năng chống tia cực tím, những vấn đề này được giải quyết một cách hiệu quả.

 

Theo chiếu xạ UV, phản ứng "nhấp chuột" được quang hóa xảy ra giữa các nhóm thiol và vinyl. Photoinitiator hấp thụ năng lượng UV để tạo ra các gốc tự do hoặc các chất trung gian hoạt động, kích hoạt phản ứng nhanh giữa các nhóm thiol và vinyl để tạo thành các liên kết hóa học ổn định, cho phép bảo dưỡng nhanh chóng. Khả năng phản ứng cao của các nhóm thiol và vinyl, cùng với sự không nhạy cảm với oxy, loại bỏ ức chế oxy bề mặt phổ biến trong các hệ thống quang hóa gốc tự do truyền thống, cải thiện đáng kể hiệu quả bảo dưỡng.

 

Lợi thế hiệu suất

- Khả năng kháng thời tiết vượt trội: Bánh sống Polysiloxane cung cấp khả năng chống thời tiết đặc biệt, cho phép lớp phủ chống lại bức xạ UV, ozone, mưa, gió và các yếu tố môi trường khác. Điều này đảm bảo bảo vệ dài hạn cho các bảng mạch trong khi duy trì tính toàn vẹn hiệu suất.

- Kháng hóa học tuyệt vời: Độ ổn định hóa học của Polysiloxane chống lại sự ăn mòn từ axit, kiềm, muối và các hóa chất khác, các bảng mạch bảo vệ và kéo dài tuổi thọ của các thiết bị điện tử.

- Cách điện nổi bật: Các đặc tính cách điện tuyệt vời của lớp phủ phân lập các bảng mạch cách ly với môi trường bên ngoài, ngăn ngừa các lỗi điện như rò rỉ hoặc mạch ngắn, do đó đảm bảo an toàn cho thiết bị.

 

Lợi thế chi phí

- Giảm sử dụng quang hóa: Khả năng phản ứng cao của các nhóm thiol và vinyl cho phép bảo dưỡng nhanh với chất quang hóa tối thiểu, giảm chi phí sản xuất.

- Không cần các amin nitơ hoặc phản ứng: Không giống như các hệ thống gốc tự do truyền thống yêu cầu khí nitơ hoặc amin phản ứng để giảm thiểu ức chế oxy, hệ thống sản xuất kép này loại bỏ các chất phụ gia đó, đơn giản hóa việc sản xuất và giảm chi phí vật liệu.

 

Ưu điểm ứng dụng

- Khả năng tương thích rộng: Thích hợp cho các thiết bị điện tử và bảng mạch đa dạng về điện tử tiêu dùng, điện tử ô tô, điều khiển công nghiệp, hàng không vũ trụ, v.v., đáp ứng nhu cầu bảo vệ đa dạng trong các ngành công nghiệp.

-Điều kiện bảo dưỡng nhẹ: Hệ thống-động cơ UV-Moisture hoạt động trong điều kiện nhẹ nhàng (không có nhiệt độ hoặc áp suất cao), giảm thiểu tác động nhiệt đến chất nền và các thành phần nhạy cảm. Điều này đảm bảo khả năng tương thích với các thiết bị điện tử tinh tế và hình học bảng mạch phức tạp, tăng cường tính linh hoạt sản xuất và khả năng ứng dụng.

 

Các hợp chất silicon phổ biến

Các hợp chất silicon phổ biến

Tin tức & Blog liên quan

Tin tức & Blog liên quan